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加氫催化裝置

作者:admin    發(fā)布時間:2020-07-01 04:51:58     瀏覽次數(shù) :1237


加氫催化裝置技術(shù)說明

裝置技術(shù)參數(shù)裝置型號: GWF41                

反應(yīng)器使用溫度:室溫-600

反應(yīng)器使用壓力:常壓-10Mpa

質(zhì)量流量計總氣體流量:0-2000sccm/min以內(nèi)

預(yù)熱器zui高使用溫度:500

反應(yīng)器催化劑裝量:2ml以下,恒溫區(qū):±1

使用電壓:220V

裝置總功率:3000W

使用環(huán)境溫度:0~45

裝置重量:200kg

外形尺寸:長*寬*高  2m*0.6m*2m

加氫催化裝置簡介

在化學(xué)反應(yīng)工程研究中,反應(yīng)器一般可以分成微分反應(yīng)器積分反應(yīng)器兩種形式,一般簡稱為微反積反。兩者的反應(yīng)器配置和結(jié)構(gòu)不同,實驗流程也不同,實驗原理和實驗數(shù)據(jù)處理方式的不同,對催化劑和反應(yīng)器結(jié)構(gòu)的要求也不同,因此在反應(yīng)研究中又有不同的使用目的,采用不同的取樣和分析方法,評價和實驗的目的也不一樣,可以得到不同方面的試驗結(jié)果。

不論微反積反都可以分為管式反應(yīng)器或釜式反應(yīng)器,微反適合于快速進(jìn)行催化劑成分的評選,甚至可以在十幾分鐘內(nèi)完成對一個催化劑的篩選,以確定一種催化劑是否有繼續(xù)研究的必要。同時在完成對多個催化劑的篩選后,可以把較好的催化劑繼續(xù)進(jìn)行評價,一般在積反反應(yīng)器上完成,這樣,就可以大大節(jié)約研究和開發(fā)新型催化劑時間。

加氫催化裝置流程:

本裝置設(shè)有四個氣路進(jìn)料。

1.氣路流程:

由鋼瓶或管線中來的高壓反應(yīng)氣體經(jīng)干燥罐、脫出罐后,進(jìn)入過濾器,以過濾掉氣體中的可能的微小固體顆粒后進(jìn)入到氣體穩(wěn)壓閥,該穩(wěn)壓閥的作用是穩(wěn)定質(zhì)量流量計氣體進(jìn)口的壓力,尤其當(dāng)氣體使用量比較大時,氣源壓力可能會有明顯變化,其閥后壓力可由壓力表讀出。并通過設(shè)定流量儀表的數(shù)值,來控制該流量計的流量,流量的真實值可以從儀表上讀出。但需要注意的是,該讀數(shù)是指該種氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的體積,而不是當(dāng)前溫度和壓力下的體積流量,需要根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)條件進(jìn)行換算。同時如果不是空氣或氮氣,還應(yīng)該按照流量計說明書后面的氣體表中的流量系數(shù)進(jìn)行校正。

在質(zhì)量流量計前后有充壓短路閥,當(dāng)反應(yīng)開始進(jìn)行時,為了快速完成升壓過程,可以利用此閥對反應(yīng)器快速充壓,也可以在反應(yīng)結(jié)束或開始的時候清洗或吹掃時使用。

反應(yīng)器

反應(yīng)器上部及下部結(jié)構(gòu)簡單,易操作的密封頭,可以直接把密封螺帽擰緊就可以。為了準(zhǔn)確的控制反應(yīng)溫度,在反應(yīng)器外壁有控制溫度傳感器,同時,為了準(zhǔn)確測得反應(yīng)器內(nèi)部的溫度,以及考察反應(yīng)是否是恒溫,而又能測定催化劑床層的軸相溫度分布,在反應(yīng)器內(nèi)部有一個測溫?zé)犭娕?,該熱電偶能自由移動。反?yīng)器下部有一個出口,反應(yīng)器出口的氣體經(jīng)直型冷凝器冷卻后進(jìn)入氣液分離器中。反應(yīng)爐為特殊設(shè)計的大熱容量開式加熱爐,爐內(nèi)分一段加熱,溫度可以任意設(shè)定,特殊的加熱方式保證了爐內(nèi)恒溫區(qū)的長度優(yōu)于其他加熱形式,可以在強反應(yīng)熱的環(huán)境中保持溫度穩(wěn)定,適合于各種反應(yīng)場合。加熱爐為合金襯管,保障了恒溫效果。

控制部分

裝置整體采用PID控制,位式控制及人工自能調(diào)節(jié),采用先進(jìn)的算法及積分控制,保證了反應(yīng)器控溫精度及穩(wěn)定性。整體控制系統(tǒng)具有異常工作狀態(tài)報警,當(dāng)催化劑床層溫度超過限定值時發(fā)出聲光報警的同時可以自動切斷設(shè)備供電及停止相關(guān)電路。并配有計算機及控制軟件。裝置控制整體集中到工業(yè)觸摸電腦上,控制軟件為組態(tài)控制,控制操作通過電腦執(zhí)行,平板電腦鑲嵌于設(shè)備上。裝置框架采用靜電噴涂工藝。

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